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[薄膜论文] 硕士论文下载:光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现

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发表于 2016-7-22 13:02:39 | 显示全部楼层 |阅读模式

  u! q% s2 C) S光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现
; d$ E7 y9 h( {. u" [' d, g  C& H钟俊(光学)
( U( [8 z$ q5 [& }导师:朱万彬" ^  l* X$ i) S+ |7 E9 J6 m
摘 要
; d; A- d& [; |; h, ~光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度。随着工业的发
8 M+ n; f( S  R6 ?& w展,对所镀膜层的厚度精度要求越来越高,特别是通信领域所用的窄带滤光片,& \) n' T: E' f! }" ^, \- ~
其带宽要求通常小于 1nm,它需要镀制几十层高低折射率材料。如果采用晶控等, Q( |' R1 j5 R5 `1 a
监控光学薄膜物理厚度的方式进行监控,则对每层的镀制精度要求非常高,甚至
! `: E- G6 ~, a$ w! D4 L" S, J当前技术无法解决。而薄膜厚度的光学监控具有自动补偿功能,那么前一层的误/ Q. J9 Y1 E4 P
差可以由后面层补偿,则此时对每层监控精度要求低很多,因此这种滤光片的镀, R1 }4 t5 f8 [
制通常采用光学监控的方法进行监控,这即是本文所研究的背景。对于光学监控
5 P! E% {  ^; [7 b存在下面一系列难点以及关键技术需要解决:光源的波动导致监测光的不稳定、
: n5 o5 ?3 W; Q3 S! Z4 _" K- F镀膜机内蒸镀膜料引起的杂散光的去除、数据信号高精度不失真的采集以及最终
, _1 O7 Y7 C8 a: D规整膜系极值点判断。. F* o9 W+ W: G" m, }
论文主要开展了如下的工作:首先利用 MATLAB 软件仿真镀膜过程中膜料的
0 K, G+ ~  E3 c沉积过程,接着使用 LabVIEW 软件仿真了反射率转化为电信号之后随着时间变化
5 v2 p( ]4 y/ @的过程,并采用锁相放大进行噪声抑制和信号解调,采用 NI 公司的 PCI-6281 数
- }- s( F" C9 {据采集卡采集镀膜机的主信号和参考信号,通过 Savitzky-Golay 平滑滤波器处
; Z$ T- P! j' f' @# D: h0 A' ~理采集的信号,去除高频噪声,得到了较平稳的信号。讨论了光学薄膜透过率或
6 V9 B1 y4 g  D( y者反射率曲线随着时间的变化关系,经比较得知采用傅里叶级数函数进行拟合得
! C8 m* M0 q% D; q" L到的误差最小。最终规整膜系监控采用极值点判断的方法,分别采用了单纯的使4 l4 u  m7 H6 N1 R0 N1 D4 j5 S
用主信号,每隔一秒求一个均值作为此时的监控电压,然后通过拟合求出极值点,
+ L+ J# A: x7 I3 T$ p) @6 E! F2 o这种监控的最终精度为 2nm,监控精度相对较低,另外一种监控方法是使用主信
1 n  u, C  G' A7 s1optical transmittance or reflectance curve hanges over time, through comparing found* Z" N2 P8 j$ b1 d# e: |7 s& N. T$ V  n
that fitting modle of Fourier series function has the minimum error. Eventually/ W( [  Z7 `  P
normalized film system monitoring methods used to determine extreme points,
& R0 r' m- f9 B) y4 F: erespectively, by the mere use of the main signal, every second request as a means of6 l+ c$ \( e2 H/ x5 U
monitoring the voltage at this time, and then obtained by fitting the extreme point, this9 q8 g3 {8 N2 a1 b9 n1 O+ m
monitoring the final accuracy of 2nm, another kind of monitoring is to use the main2 I! G7 x' e( l  y& P
signal and reference signal for phase-locked amplification, followed by the same
+ J& E7 I& G& n: u1 `5 a: xcurve fitting, the final monitoring accuracy is 1nm, achieved the desired target.; y- a  U8 V8 A% o
Key words: optical thin film thickness; monitoring; Fourier series; extreme points. V0 O- f  P( M
链接:http://pan.baidu.com/s/1qYb6AJy 密码:
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+ f; q, O9 x! R' e$ |! [6 O
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