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[薄膜论文] 硕士论文下载:光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现

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发表于 2016-7-22 13:02:39 | 显示全部楼层 |阅读模式
' k9 L; i4 d  Z+ B! r1 o  `7 l
光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现
7 }. U( _1 i  w+ ^8 K7 Y1 u& w! e钟俊(光学)
# t( k7 `) ?) G* y. g/ k/ @导师:朱万彬
  b5 N4 q7 E" u+ D( [) c+ B摘 要
4 ^& \  g. B0 \光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度。随着工业的发
, P& X8 k0 u* i) v: v& b5 T5 D. ~展,对所镀膜层的厚度精度要求越来越高,特别是通信领域所用的窄带滤光片,* {) i/ S: j$ j7 r; s, b6 u
其带宽要求通常小于 1nm,它需要镀制几十层高低折射率材料。如果采用晶控等9 v0 [7 ]! r" J2 D
监控光学薄膜物理厚度的方式进行监控,则对每层的镀制精度要求非常高,甚至
8 P4 j) R$ B- z4 R4 |9 v: r当前技术无法解决。而薄膜厚度的光学监控具有自动补偿功能,那么前一层的误. m) h+ q  A7 S
差可以由后面层补偿,则此时对每层监控精度要求低很多,因此这种滤光片的镀
3 Y0 {1 O7 n# w& T& u; U制通常采用光学监控的方法进行监控,这即是本文所研究的背景。对于光学监控
: {4 \# B8 X+ L2 x7 R  Y存在下面一系列难点以及关键技术需要解决:光源的波动导致监测光的不稳定、
- a6 j4 h7 \$ v3 L5 S/ d镀膜机内蒸镀膜料引起的杂散光的去除、数据信号高精度不失真的采集以及最终
/ M7 Z' G( J4 G% Q- J规整膜系极值点判断。- K8 l0 d) u3 ?# A+ _% k
论文主要开展了如下的工作:首先利用 MATLAB 软件仿真镀膜过程中膜料的
1 _3 L. A% L& Z& S- E沉积过程,接着使用 LabVIEW 软件仿真了反射率转化为电信号之后随着时间变化. F, c6 H0 Q0 y( Q2 N
的过程,并采用锁相放大进行噪声抑制和信号解调,采用 NI 公司的 PCI-6281 数6 M7 K2 J8 w5 k9 H0 d
据采集卡采集镀膜机的主信号和参考信号,通过 Savitzky-Golay 平滑滤波器处( Z) P6 }. L# ]. S
理采集的信号,去除高频噪声,得到了较平稳的信号。讨论了光学薄膜透过率或
  x2 n& k1 i( X者反射率曲线随着时间的变化关系,经比较得知采用傅里叶级数函数进行拟合得4 ?+ e$ E! |2 @- ^9 i; D0 I
到的误差最小。最终规整膜系监控采用极值点判断的方法,分别采用了单纯的使' B& @. P# d0 [, {
用主信号,每隔一秒求一个均值作为此时的监控电压,然后通过拟合求出极值点,- B: Y0 _5 g* }; r1 c+ S% h& t' C
这种监控的最终精度为 2nm,监控精度相对较低,另外一种监控方法是使用主信. T- p# `3 M  I. g0 U, q
1optical transmittance or reflectance curve hanges over time, through comparing found
. i; I# j2 z) ]( F9 P& ^; H9 Gthat fitting modle of Fourier series function has the minimum error. Eventually
% ~7 ^5 q+ g& |, {9 v  P# @normalized film system monitoring methods used to determine extreme points,3 P- O: e" N. B3 Z9 d
respectively, by the mere use of the main signal, every second request as a means of
. B) v8 z7 \; `6 jmonitoring the voltage at this time, and then obtained by fitting the extreme point, this
/ T+ p: G. q9 B- z/ hmonitoring the final accuracy of 2nm, another kind of monitoring is to use the main8 N, ~- ?1 {0 H8 ?7 Z
signal and reference signal for phase-locked amplification, followed by the same( `+ q2 N4 Z0 N% f$ R, C4 W) u
curve fitting, the final monitoring accuracy is 1nm, achieved the desired target.
: z) v% [6 a3 @7 e" iKey words: optical thin film thickness; monitoring; Fourier series; extreme points  W$ C5 [  j* n5 [
链接:http://pan.baidu.com/s/1qYb6AJy 密码:
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