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[原创] 镀膜膜料点改善思路

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发表于 2017-8-7 13:48:12 | 显示全部楼层 |阅读模式
善思路8 M" T: `  J) F7 h

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膜料点不良也是镀膜产品的一个常见问题,在日企、台企把膜料点称为“斑孔”,顾名思义,膜料点就是蒸镀中,大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片的表面,在基片表面形成点状的突起,有时是个别点,严重时是成片的细点,大颗粒点甚至可以打伤基片表面。
9 n4 _% U! Z3 l5 |- n9 U

& D4 T( V1 l9 H/ m  Y# Y
各种膜料的蒸发特性是不一样的,特别是熔点温度和蒸发温度有很大差异

  Z, d& c' J7 ^0 L5 a
熔点温度大于蒸发温度的材料,由固态直接气化蒸发,是升华材料;

# H$ y/ u' }; R3 p! e
熔点温度小于蒸发温度的材料,由固态先化成液态尔后在转换成气态蒸发,是非升华材料;
# Z4 v0 t# f( h4 _6 Y
熔点温度与蒸发温度相当的材料,由固态到气态蒸发,边融化边蒸发。是半升华材料。

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其中非升华材料最容易产生膜料点,因为液态的膜料继续加热会沸腾,沸腾中膜料中的气泡溢出,飞溅膜料点的可能性加大。有时在材料预熔时就有很大的飞溅。
9 b) l& S0 \; _  j$ A% V
膜料受潮,预熔或蒸镀时水汽逸出,也会造成飞溅产生。
+ a% X. C, ?8 |' ?  F
下表是几种常用膜料的升华特性

! a' R8 ~, I6 F5 s, a膜料不纯、膜料参杂,即膜料中有了熔点温度、蒸发温度不一致的材料,这也是膜料点产生的原因。- R+ k; e# R( ?) [( X
/ v% f: e' R2 g& b5 t  n" B/ X
改善思路:选用好的膜料、充分预溶、控制速率。
! n$ }) F3 m. S5 r
改善对策:

4 E: k2 W' E/ V3 B0 S: Z; @; R
㈠ 选择杂质少的膜料

5 N/ H5 N! K; `! H+ c1 v! |- D
㈡ 对易飞溅的膜料选择颗粒合适的膜料

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㈢ 膜料在镀前用网筛筛一下

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㈣ 精心预熔,MgF2务必熔透一次蒸镀所需膜料,而Ta2O5 和TiO2必须彻底熔透。
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㈤ 用一把电子枪镀制几种膜料时,防治坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下 膜料渣造成膜料污染。一旦发现坩埚膜料有污染,应立即更换。

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㈥ 尽最大可能使蒸发舟、坩埚干净。(勤打扫)。
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㈦ 选择合适的蒸发速率及速率曲线的平滑。特别是非升华材料,蒸发速率不宜高。

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㈧ 膜料去潮,将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥

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注意:有时膜层内有一些细小的点子,有可能不是膜料点,而是灰尘点,处理的方法与膜料点不良是不同的,应严格区分,分别处理。
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