不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响

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不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响
4 Z. ]# ^3 p( \$ ]MgF2是应用最早的、最常用的、性能优良的光学镀膜材料。然而，由于其制备工艺过程不同所造成的材料内部组织结构上的差异，最终对真空镀膜工艺和薄膜光学性能(如折射率)会产生很大的影响
$ @( ^/ r+ S8 R+ o0 t8 PMgF2压片材料结构较为松散,内部组织中存在大量的气孔和未脱除的结晶水，冷压时排出了部分气孔，但由于没能从根本上消除气孔，并有少量结晶水存在，镀膜过程仍有放气、喷溅及成膜后折射率偏离现象。
$ Q3 j- f& ]1 M/ `$ \+ U' x晶体MgF2材料，从材料处理工艺上采用了真空低温预处理、高温脱气等过程，最大限度地排除了产生放气、喷溅和发生化学反应，从而具备了组织均匀的良好内部特征，是真空镀膜的优良首选材料。

1995年，爱特斯光学开始氟化镁真空镀膜材料的生产，主要生产氟化镁晶体和氟化镁压片，产品质量稳定，热销于国内外市场。
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