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科研专用真空镀膜机

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所在地: 北京
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最后更新: 2016-12-16 21:46
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公司基本资料信息
 
 
产品详细说明
品牌:vakia沃家真空型号:MSC400类型:电镀电源电镀位置:表面处理镀种:真空镀膜额定功率:6kW额定电压:380VVAKIA-MSC系列真空磁控溅射镀膜机

真空磁控溅射镀膜机广泛应用于家电电器、钟表、灯具、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表、塑料、玻璃、陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。所谓“溅射”就是用荷能粒子(通常用气体正离子)轰击物体,从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象。早在1842年Grove在实验室中就发现了这种现象。磁控溅射靶采用静止电磁场,磁场为曲线形,均匀电场和对数电场则分别用于平面靶和同轴圆柱靶。电子在电场作用下,加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞。若电子具有足够的能量(约为30ev)时,则电离出Ar+并产生电子,电子飞向基片,Ar+在电场作用下,加速飞向阴极(溅射靶)并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。?
本公司的磁控溅射镀膜设备有以下几大特点:
1)膜厚可控性和重复性好。能够可靠的镀制预定厚度的薄膜,并且,溅射镀膜可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层;
2)薄膜与基片的附着力强。部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象,在基片上形成一层溅射原子与基片原子相互溶合的伪扩散层;

3)制备特殊材料的薄膜,可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜,还可溅射成TiN仿金膜;4)膜层纯度高,溅射膜层中不会混入坩锅加热器材料的成份。




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