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磁控溅射中试线

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基片大小: 300mm*600mm
加热温度: 250℃
基片厚度: 2mm-10mm
单价: 面议
起订:
供货总量:
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
所在地: 安徽 蚌埠市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2017-09-13 22:06
浏览次数: 91
询价
公司基本资料信息
 
 
产品详细说明
 磁控溅射中试线基本参数
基片最大尺寸:356mm × 406mm
溅射室极限真空:<1×10-6Torr within 8hrs
排气性能: <9×10-5Torr within 30min
基片加热:最高温度400℃,均匀性±5%以内
溅射阴极:平面阴极3条 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T) 
旋转阴极2对 500mm(H)×133mm(ID)
溅射电源:直流电源(10kW),中频电源(10kW)

磁控溅射中试线用途
金属膜代加工,工艺授权(各种颜色可调金属/非金属膜;衣服,灯,空调等颜色可调小装饰片,铝膜,铜膜等)
硬质膜工艺授权(氧化锆高耐磨性膜,碳膜,DLC高硬膜等)
复合膜工艺授权(氮氧化钛等)
氧化物介质膜(氧化钛,氧化锆等)
Low-e工艺授权
导电膜工艺授权(ITO,AZO)
减反膜,消影膜,蓝膜,电致变色,光致变色等工艺授权。
旋转靶/平面靶靶材测试

我所拥有强大的研发团队,14名研究员中硕士以上学历者十一人,博士以上学历者两人,均有丰富的工厂&研究所工作经验。
现承接各种工艺需求,代加工。
磁控溅射设备有需要者咨询金老师,电话:13335522658。
地址:安徽省蚌埠市东海大道761号。

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