您真的了解镀膜工艺吗？不了解就进来看看吧

zkyioe

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8 L; l5 C- S$ q
2 x' c* @, M% s8 Q) R3 P导言
镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一。这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺，从原理上了解这些工艺的异同。
3 Z; }2 L) ?* s# Q8 \& G简介
镀膜指在基材上形成从数纳米到数微米的材料层，材料可以是金属材料、半导体材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。镀膜的工艺可以最简略的分为化学工艺及物理工艺：
5 H- P2 i8 @9 r" i7 x! M化学方法
通常是液态或者气态的前体材料经过在固体表面的化学反应，沉积一层固体材料层。以下常见的镀膜工艺都是属于化学工艺：
, c( v  j; j. m◆ 电镀(Electroplating)：

- A9 n6 u2 @  D9 o◆ 化学溶液沉积 Chemical solution deposition (CSD)：
( v: ]7 |1 Z+ c  L4 x' }% _" a: x◆ 旋转涂覆法 Spin-coating：

◆ 化学气相沉积 Chemical vapor deposition(CVD)：

! \1 p$ x% q( O- Z/ P7 F, c◆ 等离子增强化学气相沉积 Plasma enhanced Chemical vapor deposition (PECVD)：
; k4 S# L& f, i4 }8 Y6 j
5 C# L2 k5 U6 ]* X% E# s物理方法
使用机械的、机电的、热力的方法来产生形成固态薄膜。通常是物理气相沉积的方法Physical vapor deposition(PVD)。以下是常见的物理镀膜工艺：
, ^9 d! }6 r, ]8 m◆ 热蒸发镀膜(Thermal evaporation)：
→电子束蒸发镀膜 (Electron beam evaporation); 
3 Q/ u$ U* z1 Z# v0 A
→离子束辅助沉积 (Ion assisted deposition IAD); 
8 G. E$ Q" Q& N- c: N
7 l: c4 _8 y( t" v$ D: U- x→电阻加热蒸发镀膜(Resistive heating evaporation)；
3 a+ d: I: V1 q: B( b$ K( `) [
→分子束外延Molecular beam epitaxy (MBE)

9 D; _: o7 K1 _/ ^3 i$ u◆ 溅射镀膜(Sputtering)：
$ \( j) N; u; z# f; R→传统溅射，

→射频溅射 RF sputtering

→离子束溅射 Ion beam sputtering (IBS)

% T) Q; b5 F. b6 V◆ 脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition PLD)：

. A! P  |! ^$ {8 V9 v6 `9 ?结语
! K( g8 ^, t! n  ]/ x0 Y, @这里给出半导体及光学镀膜工艺的一个最广泛的分类介绍，而以后的笔记中会包含对于光学镀膜最常见工艺的比较与分析，这些工艺包括E-beam, IAD, IBS。

charles2022

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yifeng602

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